半导体可饱和吸收镜失效分析及改进方法研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:


Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    介绍了半导体可饱和吸收镜的锁模原理和制作方法,通过分析超短脉冲激光与半导体材料作用原理,阐述了提高半导体可饱和吸收镜抗激光损伤阈值的方法,如吸收区掺杂、退火、扩大低温生长区、表面热沉等。实验中通过退火和镀介质薄膜使半导体可饱和吸收镜由不能工作转为能够工作,并且获得稳定的连续锁模脉冲激光输出。

    Abstract:

    The modelocking principle and the manufacture method of semiconductor saturable absorption mirror are introduced. By analyzing the behavior that ultrashort pulse acts on semiconductor material , some methods to increase the anti-damage threshold are put forward , such as doping in absorption layer , annealing , widening the area grown at low temperature , surface heat sink and so on. In experiment , several semiconductor saturable absorption mirrors could work and obtain stable passive modelocking pulse output after annealing and being coated with dielectric film.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王勇刚 马骁宇 冯 健 李 伟 李照银.半导体可饱和吸收镜失效分析及改进方法研究[J].激光与红外,2004,34(3):
.[J]. LASER & INFRARED,2004,34(3):

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期: 2004-06-09
  • 出版日期: