用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制
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上海市科学技术发展基金项目(No.0259nm-034)


Development of Ultra-high Vacuum Chromium Atomic Sources in Atom Lithography
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    摘要:

    原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10-5Pa,铬原子源温度为1650℃,铬原子最可几速率为960m/s,原子炉口所喷射出的铬原子数为N=1.5×1017s-1。

    Abstract:

    The fine atomic sources is the important factor in atom lithography,a experiment set-up for realization of ultra-high vacuum chromium atomic sources was reported.In our experiment system,the parameters are that vacuum more than 5.0×10-5Pa,temperature of chromium sources is 1650℃,the probable velocity of chromium atom is 960m /s,the numbers of chromium atoms out of oven is N=1.5×1017s-1.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

张文涛;李同保.用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制[J].激光与红外,2007,37(2):155~157
ZHANG Wen-tao; LI Tong-bao. Development of Ultra-high Vacuum Chromium Atomic Sources in Atom Lithography[J]. LASER & INFRARED,2007,37(2):155~157

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