硫化锌衬底上氧化铪保护膜制备及性能研究

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硫化锌衬底上氧化铪保护膜制备及性能研究
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Preparation and Properties of Hafnium Oxide Protective Films on ZnS Substrates

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采用磁控溅射法在硫化锌衬底上制备了氧化铪薄膜，并对氧化铪薄膜的结构和性能进行了分析和测试。结果表明，制备的氧化铪薄膜结构为单斜相，膜层致密，在8~12μm波段对硫化锌衬底的透过率没有明显影响，硬度显著高于衬底的硬度，且与衬底结合良好，适合用作硫化锌的红外保护膜。

Abstract:

Hafnium Oxide(HfO2) films have been deposited on zinc sulphide(ZnS) substrates using RF reactive magnetron sputtering. The structure and properities of HfO2 films have been investigated. The results indicated that the structure of HfO2 films are monoclinic phase and compact. After coated, compared to ZnS substrates, the transmittance changing in the 8~12μm waveband is not remarkable. The hardness of HfO2 films is much higher than that of ZnS substrates and adhesion with ZnS substrates is fine,so HfO2 films could offer excellent protection for ZnS.

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引用本文

刘伟,苏小平,张树玉,王宏斌,郝鹏.硫化锌衬底上氧化铪保护膜制备及性能研究[J].激光与红外,2007,37(8):762~764
LIU Wei, SU Xiao-ping, ZHANG Shu-yu, WANG Hong-bin, HAO Peng. Preparation and Properties of Hafnium Oxide Protective Films on ZnS Substrates[J]. LASER & INFRARED,2007,37(8):762~764

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