Si基HgCdTe材料的电学特性研究
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Si基HgCdTe材料的电学特性研究Study of Sisubstrate HgCdTe Electrical Properties
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    摘要:

    文章研究了Si基分子束外延HgCdTe原生材料、P型退火材料和N型退火材料的霍耳参数、少子寿命等材料电学特性。研究发现,晶格失配导致Si基HgCdTe材料原生材料和N型退火材料迁移率低;Si基原生HgCdTe材料属于高补偿材料,但高补偿性并非材料的固有特性,通过P型退火可使材料变为低补偿材料,迁移率得到提高。采用分子束外延方法制备的3in Si基HgCdTe材料电学性能与GaAs基HgCdTe材料相比,性能还有待提高。改进分子束外延生长工艺提高HgCdTe质量,从而进一步提高迁移率,是Si基外延研究的关键。

    Abstract:

    The research of Si/HgCdTe electrical properties through Hall and minority lifetime measurement of insitu grown material, Ptype annealed material and Ntype annealed material grown by MBE is reported. Compensated property of insitu grown Si/HgCdTe material was obtained, but the compensation was not the intrinsic character of material. By Ptype annealing, Si/HgCdTe material can be converted to noncompensated material, and increased mobility was acquired. Compared with insitu grown GaAs/HgCdTe material, Si/HgCdTe material is pending raise to a certain extent. Optimizing MBE growth technology thus improving HgCdTe quality and then increasing mobility is the crucial part of Sisub HgCdTe.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

魏青竹,吴俊,巫艳,陈路,于梅芳,王伟强,傅祥良,何力. Si基HgCdTe材料的电学特性研究[J].激光与红外,2007,37(13):919~923
WEI Qing-zhu, WU Jun, WU Yan, CHEN Lu, YU Mei-fang, WANG Wei-qiang, FU Xiang-liang, HE Li. Si基HgCdTe材料的电学特性研究Study of Sisubstrate HgCdTe Electrical Properties[J]. LASER & INFRARED,2007,37(13):919~923

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