(NH4)2S硫化处理后InGaAs表面特性的研究
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The Surface Properties of InGaAs Passivated with (NH4)2S
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    通过(NH4)2S湿法硫化InGaAs表面,利用微波反射光电导衰减法测量了经(NH4)2S硫化后的少数载流子寿命。结果显示,经过硫化处理后的InGaAs表面复合速度接近于理想的InP/InGaAs双异质结材料的界面复合速度。为了更好地表征钝化效果,在硫化后的InGaAs表面淀积SiNx制备了MIS结构,通过高低频C-V测试得出两者的界面态密度为8.5×1010cm-2·eV-1。

    Abstract:

    The minor carrier lifetime of InGaAs(100) after treatment with (NH4)2S solution was measured by the microwave photoconductivity decay (μ-PCD). The result shows that SRV of the InGaAs after treatment with (NH4)2S solution approach that of the nearly ideal InP/InGaAs interface. For better evaluating effect of sulfur, SiNx is deposited on surface of the InGaAs for fabricating MIS. Through measuring the CV properties, the statement of interface is confirmed.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

韩冰,王妮丽,唐恒敬,龚海梅.(NH4)2S硫化处理后InGaAs表面特性的研究[J].激光与红外,2007,37(13):944~946
HAN Bing, WANG Ni-li, TANG Heng-jing, GONG Hai-mei. The Surface Properties of InGaAs Passivated with (NH4)2S[J]. LASER & INFRARED,2007,37(13):944~946

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