ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究

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ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究
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Preparation and properties of hafnium oxynitride protective films and anti-reflection films on ZnS substrates

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用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF3和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜，研究了镀膜前后CVDZnS在8~12 μm波段的光学性能，单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%，峰值透过率大于83.5%。在CVDZnS上镀制HfON保护膜后，其8~12 μm波段透过率没有明显的降低，同时硬度测试表明HfON薄膜的硬度约为11.6 GPa，远大于衬底CVDZnS的硬度。胶带实验和泡水试验表明，制备的保护膜和增透膜均和衬底有

Abstract:

Hafnium oxynitride protective films and anti-reflection films were separately prepared onto double side of CVDZnS substrates.The optical properties of CVDZnS before and after coated AR in the region of 8~12μm were studied.After coated AR on the single surface of CVDZnS substrates,the average transmittance improved from 74% to 82% and the peak transmission of the films was more than 83.5%.After coated HfON protective films,the transmittance of HfON/CVDZnS/AR system had no obvious decreased in the region of 8~12μm and the hardness of HfON/CVDZnS system had the value of 11.6GPa which higher than the hardness of CVDZnS substrates.The HfON protective films and anti-reflection films had good adherence with the CVDZnS substrates.

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刘伟,张树玉,闫兰琴,袁果,刘嘉禾,黎建明,杨海,苏小平,余怀之. ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究[J].激光与红外,2009,39(5):531~534
LIU Wei, ZHANG Shu-yu, YAN Lan-qin, YUAN Guo, LIU Jia-he, LI Jian-ming, YANG Hai, SU Xiao-ping, YU Huai-zhi. Preparation and properties of hafnium oxynitride protective films and anti-reflection films on ZnS substrates[J]. LASER & INFRARED,2009,39(5):531~534

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