3英寸CdTe/Si复合衬底外延技术研究
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Study on MBE CdTe layer on 3 inch silicon substrate
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    摘要:

    报道了采用分子束外延法,在3 in硅衬底上通过As钝化、ZnTe缓冲层生长、CdTe生长、周期性退火等工艺进行CdTe/Si复合衬底制备技术研究情况,采用光学显微镜、X射线高分辨衍射仪、原子力显微镜、红外傅里叶光谱仪和湿化学腐蚀等手段对碲化镉薄膜进行了表征,测试分析结果表明碲化镉薄膜的晶向得到了较好的控制,孪晶得到了抑制,且具有较好晶体结构质量和均匀性。

    Abstract:

    CdTe(211)B films were grown by molecular beam epitaxy on As-passivated nominal three-inch Si(211)wafer using thin interfacial ZnTe(211)B buffer layer,and in-situ cyclic annealing has been used during CdTe deposition to improved crystal quality.The CdTe films were characterized with Optical microscopy,X-ray diffraction,AFM,FTIR and wet chemical defect etching.The results indicate that the CdTe(112)B films has good crystal quality,excellent uniformity over three-inch area,twin-free and the crystalline orientation is controlled.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

周立庆,刘铭,巩锋,董瑞清,折伟林,常米.3英寸CdTe/Si复合衬底外延技术研究[J].激光与红外,2011,41(5):537~541
ZHOU Li-qing, LIU Ming, GONG Feng, DONG Rui-qing, SHE Wei-lin, CHANG Mi. Study on MBE CdTe layer on 3 inch silicon substrate[J]. LASER & INFRARED,2011,41(5):537~541

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