InSb中Be离子注入成结研究
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PN junction in InSb by Be ion implantation
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    进行了InSb中Be注入成结实验研究。得到的二极管在77 K低背景下测得的特性为:正向电流-电压遵守I0eqv/βKT规律,其中β为1.6,在-0.1 V时反向电流密度为2.14×10-7 A/cm2,在-1 V时反向电流密度为3.9×10-6 A/cm2,优值因子R0A为1.89×105 Ωcm2。经装入结构测试,芯片光电性能达到生产要求水平。

    Abstract:

    PN junction in InSb has been made by Be ion implantation.I-V characteristics of the fabricated diode was measured at 77 K background.For the junction,the forward current obeys the I0eqv/βKT rule where β is 1.6.The reverse current density is 2.14×10-7 A/cm2 at-0.1 V and 3.9×10-6 A/cm2 at-1 V.The R0A product is 1.89×105 Ωcm2.The chip was loaded into the metal structure and tested.Its electro-optical performance meets the production requirement.

    参考文献
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引用本文

杜红燕. InSb中Be离子注入成结研究[J].激光与红外,2012,42(2):161~164
DU Hong-yan. PN junction in InSb by Be ion implantation[J]. LASER & INFRARED,2012,42(2):161~164

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