Hg1-xCdxTe/CdTe/Si薄膜厚度测试方法的研究
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Study on film thickness measurement of Hg1-xCdxTe/CdTe/Si
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    摘要:

    在分子束外延生长高质量的CdTe/Si复合衬底上,分别通过MBE和LPE技术成功地研制出Hg1-xCdxTe/CdTe/Si红外探测器所需的重要红外半导体材料。利用傅里叶变换红外光谱仪对Hg1-xCdxTe/CdTe/Si红外半导体材料的红外透射光谱进行测试分析且计算薄膜厚度,并配合扫描电子显微镜对其厚度计算分析进行校正,最终获得一种无破坏、无污染、快捷方便的多层膜厚度测试方法。

    Abstract:

    High quality CdTe/Si composite substrate is grown by molecular beam epitaxy.We develop Hg1-xCdxTe/CdTe/Si which is an important infrared material and used for making infrared detector by MBE and LPE respectively.The infrared transmission spectrum of Hg1-xCdxTe/CdTe/Si by FTIR is analyzed and then the film thickness is calculated.The SEM measurement result is used for correcting.Finally,we establish a non-destructive,non-polluted,fast and convenient measurement method for multilayer film thickness.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

折伟林,田璐,晋舜国,许秀娟,沈宝玉,王文燕. Hg1-xCdxTe/CdTe/Si薄膜厚度测试方法的研究[J].激光与红外,2012,42(12):1351~1354
SHE Wei-lin, TIAN Lu, JIN Shun-guo, XU Xiu-juan, SHEN Bao-yu, WANG Wen-yan. Study on film thickness measurement of Hg1-xCdxTe/CdTe/Si[J]. LASER & INFRARED,2012,42(12):1351~1354

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  • 在线发布日期: 2012-12-21
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