CMOS工艺APS阵列的近红外响应及参数分析
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国家自然科学基金项目(No.61071043);重庆市自然科学基金项目(CSTC,2010BB0075)资助


Parameters analysis and near-infrared response of CMOS APS array
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    摘要:

    采用DevEdit3D构建了5×5的像元结构模型,在基于Lnuminous 1 μm的近红外的照射下,利用Silvaco TCAD仿真了像元中心距、阱深、衬底掺杂浓度等工艺参数对其电荷收集量和像元串扰程度的影响。仿真测得电荷收集量随像元中心距和阱深的增大而增大,随衬底掺杂浓度的增大而减小;像元间串扰程度与像元中心距的大小以及阱深的深度成反比,与衬底掺杂浓度的大小成正比。最后对以上影响的成因进行了理论分析。

    Abstract:

    The 5×5 CMOS array is designed with Devedit 3D.Based on the near-infrared (1μm)from Lnuminous,the effect of center distance,substrate doping and N-well depth on the crosstalk and collected charges is simulated with Silvaco TCAD.The simulation shows that the collected charges increase with the increase of center distance and N-well depth,and it decreases with the increase of substrate doping.The crosstalk is inversely proportional to center distance and the well depth,and it is proportional to the substrate doping concentration.Finally the causes of the above effects are theoretically analyzed.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王庆祥,孟丽娅,刘泽东,王成. CMOS工艺APS阵列的近红外响应及参数分析[J].激光与红外,2014,44(2):172~174
WANG Qing-xiang, MENG Li-ya, LIU Ze-dong, WANG Cheng. Parameters analysis and near-infrared response of CMOS APS array[J]. LASER & INFRARED,2014,44(2):172~174

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  • 在线发布日期: 2014-02-25
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