长波碲镉汞材料As掺杂激活研究
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Research on arsenic-doping activation in LW HgCdTe
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    摘要:

    利用离子注入工艺实现长波碲镉汞材料的As掺杂,As作为掺杂介质表现出两性掺杂行为,而As只有占据Te位成为受主才能形成P型碲镉汞材料。通过对砷掺杂碲镉汞材料在汞气氛中进行退火,分析注入退火引起的样品电学性质的变化,对砷激活退火采用的汞压、温度及时间进行了研究,利用霍尔测试和二次离子质谱仪(SIMS)等手段分析激活效果,研究发现,高温富汞热退火可以实现碲镉汞As激活。

    Abstract:

    Arsenic-doped long-wavelength HgCdTe was realized by ion implantation. As doping medium,arsenic shows amphiprotic doping property. When Arsenic only occupies Te-site to be acceptor,P type HgdTe material can be formed. After the arsenic-doped HgCdTe is annealed in the mercury atmosphere,the change of electrical property which is caused by annealing is analyzed. And the effect of mercury pressure,temperature and time on arsenic activation is studied. The activation effect is analyzed by Hall measurement and SIMS. In the end,when the arsenic-doped HgCdTe is annealed in the high temperature and high mercury atmosphere,arsenic activation is achieved.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

张舟,陈慧卿,朱西安.长波碲镉汞材料As掺杂激活研究[J].激光与红外,2015,45(2):163~165
ZHANG Zhou, CHEN Hui-qing, ZHU Xi-an. Research on arsenic-doping activation in LW HgCdTe[J]. LASER & INFRARED,2015,45(2):163~165

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  • 在线发布日期: 2015-03-23
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