640×512 15 μm 杜瓦真空失效的极限真空度研究
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Study on the limit vacuum degree of 640×512 15μm Dewar vacuum failure
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    摘要:

    真空微型杜瓦内部需要高真空度来降低杜瓦与外界的热交换,保持探测器芯片低温工作温度稳定。不同杜瓦失效的真空度有一定的区别,本文通过对640×512 15 μm 及320×256这两种杜瓦组件进行不同真空度下的静态热负载测试,确定以上两种杜瓦结构的真空失效时的极限真空度。通过对比分析杜瓦组件的真空失效机理及实验数据,提出改进该结构杜瓦真空寿命的措施。

    Abstract:

    In order to keep the detector chip stable at low temperature,the vacuum micro Dewar needs a high vacuum degree to reduce the heat exchange between Dewar and the outside world.The vacuum degree of different Dewar failure is different.In this paper,the limit vacuum degree of the above two Dewar structures is determined by static thermal load test under different vacuum degrees for 640×512 μm and 320×256 Dewar components.By comparing and analyzing the vacuum failure mechanism and experimental data of Dewar assembly,the measures to improve the vacuum life of Dewar assembly are put forward.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王冠,孟令伟,张冬亮,房方,杨斌.640×512 15 μm 杜瓦真空失效的极限真空度研究[J].激光与红外,2019,49(12):1442~1446
WANG Guan, MENG Ling-wei, ZHANG Dong-liang, FANG Fang, YANG Bin. Study on the limit vacuum degree of 640×512 15μm Dewar vacuum failure[J]. LASER & INFRARED,2019,49(12):1442~1446

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  • 在线发布日期: 2019-12-24
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